SIMULATION OF FORMATION OF TOPOLOGICAL STRUCTURES IN VACUUM RESIST LAYERS
Abstract
The modeling of formation of topological structures with 3D elements of various sizes and configurations in а vacuum resist exposed to pulsed laser radiation with different energy density was carried out. It was found experimentally that the simulation allows predicting the actual parameters of lithography laser systems for high-quality formation of 3D topology elements in layers of vacuum resist when creating masks.
About the Authors
V. E. Obukhov
Physical Technical Institute of the National Academy of Sciences of Belarus
Belarus
Belarus
E. P. Shpak
Physical Technical Institute of the National Academy of Sciences of Belarus
Belarus
Belarus
S. P. Zhvavyi
B. I. Stepanov Institute of Physics of the National Academy of Sciences of Belarus
Belarus
Belarus
V. A. Azarko
The Institute of Chemistry of New Materials of the National Academy of Sciences of Belarus
Belarus
Belarus
References
1. Green technological process of dry laser vacuum microlithography and equipment claster for its realisation in ASIC manufacturing / V. E. Obukhov [et al.] // Proc. of the Joint Intern. Congress «Electronics Goes Green 2004 +». – Германия - Берлин, 2004. - P. 803-806.
2. A Submodule For The Laser Vacuum Projection Lithography / V. A. Azarko [et al.] // Proc. SPIE. - 1994. - Vol. 2336. - Р. 227-232.
3. Iterative methods in semiconductor device simulation / C. S. Rafferty [et al.] // IEEE Trans. Elec. Dev. - 1985. - Vol. ED-32, N 10. - Р. 2018-2027.
4. Dutton, R. W. Modeling and simulation for VLS / R. W. Dutton // Intern. Electron Devices Meeting. Technical Digest. - 1986. - Р. 2-7.
5. Dutton, R. W. Perspectives on technology and technology-driven CAD / R. W. Dutton, A. J. Strojwas // IEEE Trans. CAD-ICAS. - 2000. - Vol. 19, N 12. - P. 1544-1560.
6. Lithographic Properties of Perylenetetracarboxylic Acid Derivatives Films / V. A. Azarko [et al.] // Proc. SPIE. - 1996. - Vol. 3179. - Р. 99 - 102.
7. Dry pattering of resistive masks and topological structures / V. V. Boksha [et al.] // Proc. SPIE. - 1993. - Vol. 2091. - P. 101-111.
8. Лазерная обработка электрохромных пленок WO3 в полосе собственного поглощения / Б. А. Будкевич [и др.] // Физика и химия обработки материалов. - 1988. - № 1. - С. 39-43.
9. Любов, Б. Я. Развитие тепловой модели поверхностного испарения металлов под действием концентрированных потоков энергии / Б. Я. Любов, Э. Н. Соболь // Физика и химия обработки материалов. - 1979. - № 6. - С. 12 - 19.
10. Углов, А. А. Расчет абляции пластины конечной толщины / А. А. Углов, И. Ю. Смуров, Ю. Н. Лохов // Физика и химия обработки материалов. – 1982. – № 1. – С. 3-7.
11. Самарский, А. А. Экономичная схема сквозного счета для многомерной задачи Стефана/ А. А. Самарский, Б. Д. Моисеенко // Журнал вычислительной математики и математической физики. – 1965. – Т. 5, № 5. – С. 816 – 827.
12. Годунов, С. К. Разностные схемы / С. К. Годунов , В. С. Рябенький. – М.: Наука, 1973. – 400 с.
13. Обухов, В. Е. Моделирование процессов абляции пленок органических материалов под воздействием импульсного лазерного излучения / В. Е. Обухов, Е. П. Шпак, С. П. Жвавый // Сб. матер. IV МНТК «Современные методы и технологии создания и обработки материалов». – Беларусь - Минск, 2009. - Т. 2. - С. 183-188.
Review
Views: 491
Email this article 
