МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССА ФОРМИРОВАНИЯ ТОПОЛОГИЧЕСКИХ СТРУКТУР В СЛОЯХ ВАКУУМНОГО РЕЗИСТА
Анатацыя
Изучены методом моделирования процессы формирования топологичеких структур с 3D-элементами различных размеров и конфигурации в слоях вакуумного резиста импульсным лазерным излучением с разной плотностью энергии. Экспериментально установлено, что моделирование позволяет прогнозировать реальные параметры работы установок лазерной вакуумной микролитографии для качественного формирования 3D-элементов топологии в слоях вакуумного резиста при создании масок.
Аб аўтарах
В. Обухов
Физико-технический институт НАН Беларуси
Беларусь
Беларусь
Е. Шпак
Физико-технический институт НАН Беларуси
Беларусь
Беларусь
С. Жвавый
Институт физики им. Б. И. Степанова НАН Беларуси
Беларусь
Беларусь
В. Азарко
Институт химии новых материалов НАН Беларуси
Беларусь
Беларусь
Спіс літаратуры
1. Green technological process of dry laser vacuum microlithography and equipment claster for its realisation in ASIC manufacturing / V. E. Obukhov [et al.] // Proc. of the Joint Intern. Congress «Electronics Goes Green 2004 +». – Германия - Берлин, 2004. - P. 803-806.
2. A Submodule For The Laser Vacuum Projection Lithography / V. A. Azarko [et al.] // Proc. SPIE. - 1994. - Vol. 2336. - Р. 227-232.
3. Iterative methods in semiconductor device simulation / C. S. Rafferty [et al.] // IEEE Trans. Elec. Dev. - 1985. - Vol. ED-32, N 10. - Р. 2018-2027.
4. Dutton, R. W. Modeling and simulation for VLS / R. W. Dutton // Intern. Electron Devices Meeting. Technical Digest. - 1986. - Р. 2-7.
5. Dutton, R. W. Perspectives on technology and technology-driven CAD / R. W. Dutton, A. J. Strojwas // IEEE Trans. CAD-ICAS. - 2000. - Vol. 19, N 12. - P. 1544-1560.
6. Lithographic Properties of Perylenetetracarboxylic Acid Derivatives Films / V. A. Azarko [et al.] // Proc. SPIE. - 1996. - Vol. 3179. - Р. 99 - 102.
7. Dry pattering of resistive masks and topological structures / V. V. Boksha [et al.] // Proc. SPIE. - 1993. - Vol. 2091. - P. 101-111.
8. Лазерная обработка электрохромных пленок WO3 в полосе собственного поглощения / Б. А. Будкевич [и др.] // Физика и химия обработки материалов. - 1988. - № 1. - С. 39-43.
9. Любов, Б. Я. Развитие тепловой модели поверхностного испарения металлов под действием концентрированных потоков энергии / Б. Я. Любов, Э. Н. Соболь // Физика и химия обработки материалов. - 1979. - № 6. - С. 12 - 19.
10. Углов, А. А. Расчет абляции пластины конечной толщины / А. А. Углов, И. Ю. Смуров, Ю. Н. Лохов // Физика и химия обработки материалов. – 1982. – № 1. – С. 3-7.
11. Самарский, А. А. Экономичная схема сквозного счета для многомерной задачи Стефана/ А. А. Самарский, Б. Д. Моисеенко // Журнал вычислительной математики и математической физики. – 1965. – Т. 5, № 5. – С. 816 – 827.
12. Годунов, С. К. Разностные схемы / С. К. Годунов , В. С. Рябенький. – М.: Наука, 1973. – 400 с.
13. Обухов, В. Е. Моделирование процессов абляции пленок органических материалов под воздействием импульсного лазерного излучения / В. Е. Обухов, Е. П. Шпак, С. П. Жвавый // Сб. матер. IV МНТК «Современные методы и технологии создания и обработки материалов». – Беларусь - Минск, 2009. - Т. 2. - С. 183-188.
##reviewer.review.form##
Праглядаў: 486
Паслаць артыкул па эл. пошце 
